玻纳刻平板光刻机研制基地项目设计-公开招标公告

公告-招标公告上海 - 上海 - 浦东新区

发布于 2026-09-28

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上海玻纳刻科技有限公司

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玻纳****点击查看基地项目设计

招标公告

1. 招标条件

本招标项目业主为****点击查看，建设资金来自企业自筹，招标人为****点击查看。项目已具备招标条件，现对该项目的设计进行公开招标。

2. 项目概况与招标范围

本项目的建设地点位于**市浦****点击查看工业园区02-05地块，项目总投资人民币150000万元，利用**市浦****点击查看工业园区02-05地块空地**1栋整机厂房、1栋洁净厂房、1栋仓库、1栋综合楼、1栋甲类仓库以及门卫室、地下室等配套设施，总占地面积20016m2；项目建成后主要从事曝光机（平板显示光刻机等）、长短寸检测设备及物镜的生产及研发。

招标范围：本次招标将通过对本项目的设计团队投标文件的评审，确定设计中标人。中标人将承担本工程的建筑设计、结构设计、电气设计、给排水设计、暖通空调设计、建筑装饰、智能化、幕墙、钢结构、风景园林、消防、环境工程、照明专业工程设计等（具体详见设计任务书）。

招标内容：根据发包人的要求：完成方案设计、规划设计（含规划过审，并协助业主取得规划许可证）、施工图设计、设计概算和相关报告文件的编制、图审报审及设计交底、施工过程中设计技术跟踪服务等。

3. 投标人资格要求

3.1 本次招标要求投标人须具备中华人民****点击查看建设部颁发的工程设计建筑行业建筑工程专业甲级及以上资质。

3.2 项目负责人资格要求：项目负责人资格需具有中华人民****点击查看建设部颁发的中华人民**国一级注册建筑师执业资格证书或一级注册结构工程师执业资格证书。

3.3****点击查看人民法院在“信用中国”网站（www.****点击查看.cn）或“中国执行信息公开网”（zxgk.****点击查看.cn）中列入失信被执行人名单。

3.4 本次招标不接受联合体投标。

4. 招标文件的获取

4.1 凡有意参加投标者，请于2026年9月28日至2026年10月10日，每日上午9时至11时，下午13时至16时（**时间，下同），在**市**路285号恒达大厦20楼持法定代表人（单位负责人）授权委托书原件、委托代理人身份证明原件及复印件、营业执照复印件（加盖公章）购买招标文件。

4.2 招标文件每套售价800元，售后不退。

5. 投标文件的递交

5.1投标文件递交的截止时间（投标截止时间，下同）为2026年10月19日10时00分，地点为**市**路285号恒达大厦10楼。